镀膜

镀膜一般是在真空环境下，将某种金属或非金属以气相的形式沉积到材料表面，形成一层致密的薄膜，镀膜质量对半导体器件的功能形成至关重要。苏州佳尔敏掌握电子束蒸发、磁控溅射、LPCVD、PECVD、原子层沉积等多种镀膜技术。

镀膜材料：

● 金属：Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Zn、Mo、W、Ta 、Nb等

● 非金属：Si、SiO2、SiNx、Al2O3、HFO2、MgF2、ITO、Ta2O5等

镀膜基底：

● 硅片、石英玻璃片、蓝宝石片、PET、Pi等

镀膜技术：

● 电子束蒸发、磁控溅射、LPCVD、PECVD、ALD原子层沉积等