LIGA工艺（光刻、电铸和模造）是德语光刻(Lithographie)、电镀（也称电铸）(Galvanoformung)和压模(Abformung)的简称。LIGA技术可加工金属、塑料等非硅材料，同时可加工深宽比大的零件，这是体微加工和表面微加工难以做到的。但该工艺要通过同步加速器辐射装置产生的高能射线作为主要的加工方法，设备昂贵，投资大。
LIGA四个工艺组成部分：LIGA掩模板制造工艺；X光深层光刻工艺；微电铸工艺；微复制工艺。
MEMS用到的主要材料是硅，这是因为MEMS加工技术中最基础的是硅的刻蚀技术，利用硅的各向异性刻蚀，可以使硅的不同晶向发生不同速率的刻蚀，从而形成特定的机械结构，且硅具有良好的机械特性，能够满足大部分微传感器和微执行器的材料力学特性的需求，同时采用硅制造能够与IC集成，形成更加复杂的微系统。