（1）旋涂。圆片被固定在旋转的台面上，光刻胶被点在圆片的中心位置。然后圆片高速旋转，光刻胶在离心力的作用下向圆片的边缘移动。当圆片停止旋转时，光刻胶会以均匀的厚度覆盖在圆片上。
（2）产生光刻图形。由透明的基板制成带有不透明图案的掩膜版，并将其靠近被光刻胶覆盖的晶片上。高能量的平行光照照射覆有掩膜版的圆片，没有被图形覆盖的光刻胶将会暴露在光线中，以此来改变光刻胶的化学组成。接着将圆片置于显影液中，去除部分光刻胶，以此让光刻胶在圆片上形成特定的图样。曝光过与未曝光的光刻胶有着不同的特性，对于正胶，曝光的部分在显影液中有更好的溶解性。再将圆片浸入可以溶解薄膜材料。
（3）形成图形化薄膜。将圆片浸入可溶解薄膜材料但不会影响光刻胶的化学溶液中，通过适当的时间控制，被光刻胶覆盖的薄膜会保持完整而没有被光刻胶覆盖的薄膜将会被去除。然后去除光刻胶，这样就能得到图形化的薄膜。